光刻機(jī)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，紫外曝光機(jī)等。ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來致力于掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前世界上最早將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

薄膜表面或界面的反射光會與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān)，因此可通過計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統(tǒng)采用光干涉原理測量薄膜厚度。 該產(chǎn)品是一款價格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測量儀器。近幾年，每年的全球銷售量都超過200臺。根據(jù)型號不同，測量范圍可以從10nm到250um，它最高可以同時測量4個膜層中的3個膜層厚度（其中一層為基底材料）。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測量，測氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜，也可以用來測量鍍在鋼、鋁、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。

開爾文探針(Kelvin Probe)是一種非接觸無損震蕩電容裝置，用于測量導(dǎo)體材料的功函數(shù)(Work Function)或半導(dǎo)體、絕緣表面的表面勢(Surface Potential)。材料表面的功函數(shù)通常由最上層的1-3層原子或分子決定，所以開爾文探針是一種最靈敏的表面分析技術(shù)。主要型號：KP020 (單點開爾文探針)，SKP5050(掃描開爾文探針)。

德國WEP公司的CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測試儀可高效、準(zhǔn)確的測量半導(dǎo)體材料（結(jié)構(gòu)，層）中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與材料接觸、腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控制。 電化學(xué)ECV剖面濃度測試儀主要用于半導(dǎo)體材料的研究及開發(fā)，其原理是使用電化學(xué)電容-電壓法來測量半導(dǎo)體材料的摻雜濃度分布。電化學(xué)ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或發(fā)展半導(dǎo)體光-電化學(xué)濕法蝕刻(PEC Etching)很好的選擇。CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測量儀適用于評估和控制在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的外延過程并且以被使用在多種不同的材料上，例如：硅、鍺、III-V族化合物半導(dǎo)體(如GaN)。

德國尤尼坦RV系列金剛石手動劃片機(jī)(Diamond Scriber)，適用于陶瓷、玻璃、半導(dǎo)體晶圓等多種材料劃片。主要型號包括：精確手動晶圓劃片機(jī)RV-129，低成本手動劃片機(jī)RV-126等。

Wire Bonding是微電子及半導(dǎo)體器件的常用工藝，WB-200半自動焊線機(jī)可進(jìn)行球焊、鍥焊、跳焊(Pump)等焊線工藝。

德國尤尼坦真空共晶爐、燒結(jié)爐，緊湊臺式設(shè)計，可在氮氣/甲酸等氛圍操作，廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝，以及金-硅合金，密集焊接和回流共晶。

德國尤尼坦回流焊爐主要用于研究開發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)

韓國Ecopia公司生產(chǎn)，最大樣品尺寸：15mm X 20mm。RTP-1200特點：使用單相電，普通照明電即可使用；風(fēng)冷設(shè)計、無須采購冷水機(jī)；真空退火，可以使用氫氮混合氣(<10%比例氫氣)。

德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，最大樣品尺寸：4英寸晶圓或者100mm x 100mm尺寸樣品，RTP-100支持惰性氣體保護(hù)、低真空或高真空快速熱處理。

德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，最大樣品尺寸：6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品，RTP-150可以支持惰性氣體保護(hù)、低真空或高真空快速熱處理。

德國優(yōu)尼坦公司生產(chǎn)，最大樣品尺寸：12英寸晶圓或300mm x 300mm尺寸樣品，VPO-300支持惰性氣體保護(hù)、低真空、或高真空快速熱處理。